运动处理器增加晶圆吞吐量
为了帮助其中电流和大电流离子注入器快速准确地处理精密的半导体晶圆,伊顿公司(Eaton Corp.)的公司推出了新的芯片。植入系统部门最近选择了Performance Motion Devices (PMD)的MC1401A运动处理器用于有刷伺服运动控制。
为了帮助其中电流和大电流离子注入器快速准确地处理精密的半导体晶圆,伊顿公司(Eaton Corp.)的公司推出了新的芯片。植入系统部门最近选择了Performance Motion Devices (PMD)的MC1401A运动处理器用于有刷伺服运动控制。伊顿将MC1401A集成到一个小型,通用,三轴运动控制器Micro 3中,用于其300毫米中电流离子植入器MC3。
MC1401A的s运动轮廓功能帮助伊顿的控制器生成平滑的轨迹,将某些运动的周期时间减少了20%。
MC1401A旨在控制低电流直流刷式电机和相关的传感器和执行器,MC1401A正在协助几个MC3应用,包括晶圆对准器,能量分析狭缝控制器,传输臂,负载锁定和提取机械手控制器。MC1401A也将用于伊顿的下一个剂量控制器,用于监测和控制应用于晶圆的掺杂剂。
更多信息,请访问www.globalelove.com/freeinfo。
您是否具有本内容中提到的主题的经验和专业知识?你应该考虑为我们的CFE媒体编辑团队做出贡献,并获得你和你的公司应得的认可。点击在这里开始这个过程。